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ITO（氧化銦錫）靶材電子陶瓷氧化錫電極 TFT-LCD玻璃基板
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氧化錫（SnO?） 325目錫粉（Sn） 1000目錫粉（Sn）五水合四氯化錫（SnCl?·5H?O）氧化銦（In?O?）銦粉（In）
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01

ITO（氧化銦錫）靶材

ITO（氧化銦錫）靶材

作用：
氧化錫是ITO靶材的關(guān)鍵成分之一（通常占10%），它與氧化銦（In?O?）燒結(jié)成靶材，用于濺射透明導電薄膜層。
純度和粒度：
純度：通常要求4N（99.99%）以上，高端應用則需要5N（99.999%）。
粒度：納米級（20-100nm），以確保濺射形成的薄膜具有均勻的導電率和透光率。

+
02

電子陶瓷

電子陶瓷

作用：
氧化錫作為添加料用于電子陶瓷，主要用于制造多層陶瓷電容器（MLCC）、壓敏電阻和熱敏電阻，以及微波介電陶瓷。
純度和粒度：
純度：范圍從3N（99.9%）到4N（99.99%）。
粒度：可以是微米級（1-10μm）或納米級（20-100nm）。

+
03

氧化錫電極

氧化錫電極

作用：
氧化錫是制造氧化錫電極的主要材料，用于高檔光學玻璃的熔煉，如火石類玻璃、鋇火石、鋇冕及重冕玻璃等，且不會污染玻璃。
純度和粒度：
純度：要求至少4N（99.99%），以確保良好的電化學性能。
粒度：納米級（50-200nm），以提高電極的反應活性。

+
04

TFT-LCD玻璃基板

TFT-LCD玻璃基板

作用：
氧化錫是制造高透光率液晶玻璃和OLED玻璃的重要輔料，有助于減少玻璃中的氣泡，從而提高玻璃的強度和透光率。
純度和粒度：
純度：通常為3N（99.9%）。
粒度：微米級（1-100μm）。

+

產(chǎn)品展示

氧化錫（SnO?）

陶瓷與玻璃工業(yè)：作為釉料或添加劑，提高材料硬度

導電材料：用于抗靜電涂層、導電陶瓷。

催化劑：在有機合成中用作固體酸催化劑。

325目錫粉（Sn）

金屬合金：制造低熔點合金（如焊錫、巴氏合金）。

化工催化劑：參與還原反應或有機合成。

粉末冶金：制備多孔材料或摩擦材料。

1000目錫粉（Sn）

電子封裝：精密焊接材料（如SMT貼片工藝）。

3D打印：作為金屬粉末用于增材制造。

高活性催化劑：用于精細化工反應。

五水合四氯化錫（SnCl?·5H?O）

有機合成：作為傅克反應或酯化反應的催化劑。

媒染劑：紡織品染色中固定染料。

電鍍與玻璃處理：用于鍍錫或制備導電玻璃涂層。

氧化銦（In?O?）

透明導電薄膜：用于液晶顯示器（LCD）

氣體傳感器：檢測臭氧（O?）或甲醛。

光電器件：作為光電二極管或晶體管材料。

銦粉（In）

低溫焊料：與錫、鉍制成無鉛焊料（如In-Sn合金）。

半導體摻雜：用于制造磷化銦（InP）等化合物半導體。

核工業(yè)：作為中子吸收材料或反應堆密封層。

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致力于高端納米粉體技術(shù)的孵化、培育和產(chǎn)業(yè)化

湖南艾緹歐新材料有限公司是專業(yè)從事高端金屬氧化物功能納米材料研發(fā)、生產(chǎn)與銷售的國家級高新技術(shù)企業(yè)。公司依托于日本國立物質(zhì)材料研究所（NIMS）技術(shù)創(chuàng)新力量支持，實現(xiàn)ITO粉體的進口替代，解決我國高端ITO靶材“卡脖子”技術(shù)難題，打破國外企業(yè)在ITO靶材技術(shù)上的壟斷地位。公司已經(jīng)建成萬級潔凈車間，生產(chǎn)高端金屬錫粉、銦粉及SnO?、In?O?、SnCl?·5H?O、ITO納米粉體。公司技術(shù)力量雄厚、生產(chǎn)工藝先進、產(chǎn)品品質(zhì)優(yōu)越，目前高端納米粉體產(chǎn)品已獲得關(guān)鍵產(chǎn)業(yè)龍頭公司優(yōu)級評價。

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